芯片，本质上是一种大规模集成电路，在芯片制造过程当中，其实还有一件设备起到关键性作用，这种设备和光刻机类似，那就是刻蚀机。光刻机和蚀刻机都是在生产现代大规模集成电路过程中必不可少的设备，两种设备各司其职、不可互相替代，可能很多人对光刻机的了解，要远远高于刻蚀机。但光刻机和蚀刻机有什么区别呢?
通俗的说法，所谓的大规模集成电路就是把我们正常看到的电路变得很小、很密集，所以说我们正常看到的zui简单的电路和芯片里面复杂而密集的电路没有本质的区别。
光刻机和刻蚀机的区别
光刻机把图案印上去，然而刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分，留下剩余的部分。光刻机难度大，刻蚀机难度小。如果把在硅晶体上的施工比成木匠活的话，光刻机的作用相当于木匠在木料上用墨斗划线，刻蚀机的作用相当于木匠在木料上用锯子、凿子、斧子、刨子等施工。
刻蚀机和光刻机性质一样，但精度要求是天壤之别。木匠做细活，一般准确到毫米就行。做芯片用的刻蚀机和光刻机，要准确到纳米。现在的手机芯片，如海思麒麟970，高通骁龙845都是台积电的10纳米技术。10纳米有多小呢?打个比方。如果把一根直径是0.05毫米头发丝，按轴向平均剖成5000片，每片的厚度大约就是10纳米。现在世界上比较好的光刻机是荷兰的ASML公司，zui小到10纳米。台积电买的都是它的光刻机。ASML公司实际上是美国、荷兰、德国等多个国家技术合作的结果。因为这方面的研究难度太大，单个国家完成不了。
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